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Optical refractive index and static permittivity of mixed Zr–Si oxide thin films prepared by ion beam induced CVD
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Microscopic and macroscopic dielectric description of mixed oxide thin films
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Relationship between scaling behavior and porosity of plasma-deposited TiO2 thin films
A. Borrás, A. Yanguas-Gil, A. Barranco, J. Cotrino, A.R. González-Elipe Physical Review B, 76 (2007) 235303 (1-8) doi: 10.1103/PhysRevB.76.235303
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